制造霍尔元件的半导体材料中,目前用的较多的是锗、锑化铟、砷化铟,其原因是这些()。

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制造霍尔元件的半导体材料中,目前用的较多的是锗、锑化铟、砷化铟,其原因是这些()。

  • A: 半导体材料的霍尔常数比金属的大
  • B: 半导体中电子迁移率比空穴高
  • C: 半导体材料的电子迁移率比较大
  • D: N型半导体材料较适宜制造灵敏度较高的霍尔元件

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